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科技前沿
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中國(guó)等離子體刻蝕機(jī)達(dá)到世界先進(jìn)水平

來(lái)源： 科技日?qǐng)?bào)
作者：南皮縣產(chǎn)學(xué)研科技成果轉(zhuǎn)化服務(wù)中心
日期： 2017-04-30
【字號(hào) 大 中 小】

 

日前，央視財(cái)經(jīng)頻道播出的《感受中國(guó)制造》第五集《中國(guó)“芯”力量》介紹了中國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備和半導(dǎo)體原材料上取得的成績(jī)和進(jìn)步。其中，最引人矚目的莫過(guò)于中國(guó)企業(yè)在刻蝕機(jī)上取得的成績(jī)——16nm刻蝕機(jī)實(shí)現(xiàn)商業(yè)化量產(chǎn)并在客戶的生產(chǎn)線上運(yùn)行，7-10nm刻蝕機(jī)設(shè)備可以與世界最前沿技術(shù)比肩。

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